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등, 활성산소 및 라디칼 제거 등","표면개질방법":"-","표면개질물질":"-","물질(군)분류":"Fullerenes(C60)","입자크기":"제품제조시 평균입경 : 수백 nm~수㎛1~10nm","기타정보":" 이 물질군은 나노물질 OECD Sponsorship programm의 제조나노물질작업반(WPMN) 관리 대상 물질군에 해당함","제조방법":"고온, 고압 합성, CVD, 아크법","응집엉김":"10nm~3um 분포"},{"물성":"-","생성날짜":"20191217","측정장비":"TEM, SEM, ASD, DLS, 입도분석기, 질소흡착, BET, ASTM","물질(그룹)분류":"탄소계","취급제품표면처리":"-","모양/형태":"구형/입자, 다각형/입자","주요기능":"-","표면개질방법":"-","표면개질물질":"oxidized Gas Black","물질(군)분류":"Carbon black","입자크기":"카본블랙：수nm~수백nm","기타정보":"0","제조방법":"Gas Black Process, Furnace Black Process, sol-gel 후 탄화법, 중질유 열분해, 연소법, 연속열분해법","응집엉김":"수십nm~수백um 분포"},{"물성":"흑연판이 말리는 각도에 따라 금속성과 반도체성을 가짐, 전기전도도와 열전도율이 높음","생성날짜":"20191217","측정장비":"TEM, SEM, BET","물질(그룹)분류":"탄소계","취급제품표면처리":"계면활성제, 황산, 질산 등","모양/형태":"구형/튜브","주요기능":"경량화, 전기적특성(금속성과 반도체성 모두 지님. 20~30nm 이상의 직경을 갖는 CNT에서는 벡터지수에 상관없이 금속성을 지님), 기계적특성(graphene sheet의 평면상","표면개질방법":"초음파처리, 액상반응공정","표면개질물질":"황산, 고분자 등","물질(군)분류":"MWCNTs","입자크기":"MWCNT : 7~60nm직경 : 5∼100nm","기타정보":" 이 물질군은 나노물질 OECD Sponsorship programm의 제조나노물질작업반(WPMN) 관리 대상 물질군에 해당하며, 대한민국은 나노물질 OECD Sponsorship","제조방법":"화학기상증착(CVD), 아크방전법, 촉매기상합성법, 볼밀법, Sol-gel, HIPCO, CCVD, Acid treatment, 레이저증착법","응집엉김":"수십nm~ 수백um"},{"물성":"0","생성날짜":"20191217","측정장비":"0","물질(그룹)분류":"기타","취급제품표면처리":"0","모양/형태":"0","주요기능":"0","표면개질방법":"0","표면개질물질":"0","물질(군)분류":"Etc.","입자크기":"0","기타정보":"0","제조방법":"0","응집엉김":"0"},{"물성":"중심주위에 나뭇가지형이 덴드론이 둘러싼 구형 고분자, 일정분자량을 가지고 있음","생성날짜":"20191217","측정장비":"-","물질(그룹)분류":"고분자","취급제품표면처리":"최외각에 다양한 기능기 변경 가능","모양/형태":"-","주요기능":"물질 전달; 분산능력","표면개질방법":"-","표면개질물질":"-","물질(군)분류":"Dendrimers","입자크기":"대표입자크기 : 1∼100nm (PAMAM 덴드리머의 경우 1세대당 1nm 씩 증가한다.)나노점토： 1~200nm(2~13um)","기타정보":" 이 물질군은 나노물질 OECD Sponsorship programm의 제조나노물질작업반(WPMN) 관리 대상 물질군에 해당하며, 대한민국은 나노물질 OECD Sponsorship","제조방법":"-","응집엉김":"-"},{"물성":"0","생성날짜":"20191217","측정장비":"0","물질(그룹)분류":"고분자","취급제품표면처리":"0","모양/형태":"0","주요기능":"0","표면개질방법":"0","표면개질물질":"0","물질(군)분류":"Polystyrene","입자크기":"0","기타정보":"0","제조방법":"0","응집엉김":"0"},{"물성":"층상구조","생성날짜":"20191217","측정장비":"XRD, SEM, TEM, AFM","물질(그룹)분류":"고분자","취급제품표면처리":"-","모양/형태":"다면체, 막대형/판, 육각형/판상, 원형/입자","주요기능":"경도, 강도증가, 내열(한)성, 방화성부여, 분산성, 기체차단성 부여 등","표면개질방법":"코어쉘코팅","표면개질물질":"NA+, 에폭시 실란","물질(군)분류":"Nanoclays","입자크기":"대표입자크기 : 10∼80nm나노점토 : 1~200nm(1~13um)","기타정보":" 이 물질군은 나노물질 OECD Sponsorship programm의 제조나노물질작업반(WPMN) 관리 대상 물질군에 해당함","제조방법":"-","응집엉김":"-"},{"물성":"중심주위에 나뭇가지형이 덴드론이 둘러싼 구형 고분자, 일정분자량을 가지고 있음","생성날짜":"20191217","측정장비":"-","물질(그룹)분류":"고분자","취급제품표면처리":"최외각에 다양한 기능기 변경 가능","모양/형태":"-","주요기능":"물질 전달; 분산능력","표면개질방법":"-","표면개질물질":"-","물질(군)분류":"Dendrimers","입자크기":"대표입자크기 : 1∼100nm (PAMAM 덴드리머의 경우 1세대당 1nm 씩 증가한다.)나노점토： 1~200nm(2~13um)","기타정보":" 이 물질군은 나노물질 OECD Sponsorship programm의 제조나노물질작업반(WPMN) 관리 대상 물질군에 해당하며, 대한민국은 나노물질 OECD Sponsorship","제조방법":"-","응집엉김":"-"},{"물성":"0","생성날짜":"20191217","측정장비":"0","물질(그룹)분류":"고분자","취급제품표면처리":"0","모양/형태":"0","주요기능":"0","표면개질방법":"0","표면개질물질":"0","물질(군)분류":"Polystyrene","입자크기":"0","기타정보":"0","제조방법":"0","응집엉김":"0"},{"물성":"층상구조","생성날짜":"20191217","측정장비":"XRD, SEM, TEM, AFM","물질(그룹)분류":"고분자","취급제품표면처리":"-","모양/형태":"다면체, 막대형/판, 육각형/판상, 원형/입자","주요기능":"경도, 강도증가, 내열(한)성, 방화성부여, 분산성, 기체차단성 부여 등","표면개질방법":"코어쉘코팅","표면개질물질":"NA+, 에폭시 실란","물질(군)분류":"Nanoclays","입자크기":"대표입자크기 : 10∼80nm나노점토 : 1~200nm(1~13um)","기타정보":" 이 물질군은 나노물질 OECD Sponsorship programm의 제조나노물질작업반(WPMN) 관리 대상 물질군에 해당함","제조방법":"-","응집엉김":"-"},{"물성":"단결정상을 갖고 있어 균일도의 수준의 높음, 화염반응에 의해 제조된 제품은 친수성","생성날짜":"20191217","측정장비":"BET, SEM, CTAB, TEM, PSA, ELS ","물질(그룹)분류":"금속 및 무기 산화물","취급제품표면처리":"계면활성제, 스테아린산, KOH, NH4F ","모양/형태":"구형/입자, 다면체/입자","주요기능":"높은 열전도성, 높은 절연성, 낮은 수분 흡수율, 기체 또는 이온 불순물의 낮은 침투성","표면개질방법":"sol-gel법, 화학적 결합, 축합방법, Silation, silane coupling reaction","표면개질물질":"Al2O3, polydimethylsiloxane, HMDS, Dimethyldichlorosilane, silicon oil, octylsilane, acrylate, Methy","물질(군)분류":"SiO\u2082","입자크기":"수nm~수백nm 까지 다양하게 분포(직경 : 1~100nm 까지 다양하게 분포)","기타정보":" 이 물질군은 나노물질 OECD Sponsorship programm의 제조나노물질작업반(WPMN) 관리 대상 물질군에 해당하며, 대한민국은 나노물질 OECD Sponsorship","제조방법":"침전(Precipitation), 침강(gel), (기체)연소,sol-gel 합성, Sputtering, Chemical Precipitation, 에어로졸공정, 공침법/stobe","응집엉김":"250nm~10um 분포"},{"물성":"약한 agglomerates 형성으로 마이크론 크기 형성","생성날짜":"20191217","측정장비":"TEM, SEM, BET","물질(그룹)분류":"금속 및 무기 산화물","취급제품표면처리":"계면활성제","모양/형태":"구형/입자 , 선형/파이버","주요기능":"강도 향상, 경량화, 금속성, 반도체성 부여, 촉매","표면개질방법":"coating , 스퍼터링 , 화학흡착","표면개질물질":"Biotin ;  silica ;  Pt, Ta Pd ; 계면활성제","물질(군)분류":"Iron","입자크기":"대표입자크기 10∼100nm2nm~200nm","기타정보":" 이 물질군은 나노물질 OECD Sponsorship programm의 제조나노물질작업반(WPMN) 관리 대상 물질군에 해당함","제조방법":"스퍼터링, Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition, 공침법/sol-gel/stober, 화학기상증착(CVD), ball-milling, 초음파 ","응집엉김":"10 um"},{"물성":"6방정계 부르자이트 결정, 높은전도성, 자외선영역 발광특성","생성날짜":"20191217","측정장비":"TEM, SEM, DLS","물질(그룹)분류":"금속 및 무기 산화물","취급제품표면처리":"Thiol, Silane, 지방산 등","모양/형태":"다면체, 구형/입자, 선형/파이버","주요기능":"전기 전도성(전기적, 광학적 응용), 전계방출특성, 발광성, 압전특성","표면개질방법":"Lipid 첨가, 표면 capping","표면개질물질":"실란, Hydrogen dimethicone, Triethoxy caprylylsilane, Lipid alkyl acid","물질(군)분류":"ZnO","입자크기":"5nm~수백nm 까지 다양하게 분포(직경 : 50nm 이상)","기타정보":" 이 물질군은 나노물질 OECD Sponsorship programm의 제조나노물질작업반(WPMN) 관리 대상 물질군에 해당함","제조방법":"습식법, 저온소성법, 수열합성, 분자선 에피택시(MBE: Molecular Beam Epitaxy), 펄스레이저 증착법(PLD: Pulsed Laser Deposition), so","응집엉김":"250nm~10um"},{"물성":"anatase, rutile, brookite 의 3가지 결정구조를 가짐광촉매는 빛에너지에 의해 강력한 산화 및 환원 작용함","생성날짜":"20191217","측정장비":"TEM, SEM, PSA, BJH","물질(그룹)분류":"금속 및 무기 산화물","취급제품표면처리":"-","모양/형태":"구형/입자, 다면체/입자, 막대/파이버","주요기능":"높은 열전도성, 높은 절연성, 낮은 수분흡수율, 기체 또는 이온불순물의 낮은 침투성, 살균특성, 광촉매기능","표면개질방법":"Sucrose 첨가, 암모니아수 첨가, 암모니아첨가후 AgNO3첨가, Lipid 첨가","표면개질물질":"Aluminium hydroxide, Stearic Acid, Isobutyltrimethoxysilane, Carbon, Nitrogen, Ag, Lipid","물질(군)분류":"TiO\u2082","입자크기":"대표입자크기 : < 20nm,수nm~수백nm","기타정보":" 이 물질군은 나노물질 OECD Sponsorship programm의 제조나노물질작업반(WPMN) 관리 대상 물질군에 해당하며, 대한민국은 나노물질 OECD Sponsorship","제조방법":"anodization, 저온균일침전법, 수열합성법, Molten salt법, sol-gel 합성, Sputtering, Plasma Enhanced Chemical Vapor De","응집엉김":"수십nm~수십um 분포"},{"물성":"표면 플라즈몬 공명현상에 기인하여 뛰어난 흡광효과를 지님","생성날짜":"20191217","측정장비":"AFM, SEM, TEM, XRD","물질(그룹)분류":"금속 및 무기 산화물","취급제품표면처리":"-","모양/형태":"구형/입자 막대형/입자, 정육각형/입자","주요기능":"안정성, 항균성 등","표면개질방법":"합성/흡착, sol-gel","표면개질물질":"Anti-Human IgG, Citrate, Citosan, CTAB, CTAC, 실리카, 은","물질(군)분류":"Gold","입자크기":"대표입자크기 : 1∼20nm금： 1~150nm","기타정보":" 이 물질군은 나노물질 OECD Sponsorship programm의 제조나노물질작업반(WPMN) 관리 대상 물질군에 해당하며, 대한민국은 나노물질 OECD Sponsorship","제조방법":"sol-gel 법, two-phase method, Solution Synthesis, Evaporation, 전구체 환원, 액상반응","응집엉김":"-"},{"물성":"산화막과 강한 화학결합을 함, 약한 agglomerates 형성 ","생성날짜":"20191217","측정장비":"TEM, SEM, ICP, AAN, 비중계 등","물질(그룹)분류":"금속 및 무기 산화물","취급제품표면처리":"-","모양/형태":"구형/입자","주요기능":"산화막 식각속도 증가, 촉매, 변색 반전 방지","표면개질방법":"-","표면개질물질":"-","물질(군)분류":"CeO\u2082","입자크기":"대표입자크기 : 2∼11nm산화세슘 10~350nm","기타정보":" 이 물질군은 나노물질 OECD Sponsorship programm의 제조나노물질작업반(WPMN) 관리 대상 물질군에 해당함","제조방법":"Baking+Crushing 등","응집엉김":"500um"},{"물성":"은나노 농도에 따른 응집특성","생성날짜":"20191217","측정장비":"TEM, SEM, DLS, 입도분석기, OM, BET","물질(그룹)분류":"금속 및 무기 산화물","취급제품표면처리":"없음","모양/형태":"구형/입자","주요기능":"살균, 항균(Antibacretial, Antifungal), 항바이러스성, 표면 플라스몬 공명(Surface Plasmon Resonance), 소염성(antiinflammato","표면개질방법":"표면 capping, mixing, 합성","표면개질물질":"fatty acid, 극성용매, citrate, 계면활성제","물질(군)분류":"Silver","입자크기":"5.8nm~수백nm 까지 다양하게 분포(직경 : 1~100nm 까지 다양하게 분포)","기타정보":"이 물질군은 나노물질 OECD Sponsorship programm의 제조나노물질작업반(WPMN) 관리 대상 물질군에 해당하며, 대한민국은 나노물질 OECD Sponsorship ","제조방법":"화학적 합성법(기상법, 액상법-AgNO3이용), 전기화학법, 광환원법(UV이용), 생체합성법(박테리아, 곰팡이 이용)","응집엉김":"10nm~수um 분포"},{"물성":"약한 agglomerates 형성으로 마이크론 크기 형성","생성날짜":"20191217","측정장비":"SEM, TEM, AFM, SEM, 입도분석기, BET, XRD","물질(그룹)분류":"금속 및 무기 산화물","취급제품표면처리":"계면활성제, 황산, 질산 등","모양/형태":"구형/입자, 판, 선형","주요기능":"경도향상, 메모리소자 누설전류감소극복, 내마모, 내수성능 증강","표면개질방법":"-","표면개질물질":"pyrogenic metal oxide","물질(군)분류":"Al\u2082O\u2083","입자크기":"대표입자크기 : 20∼80nm13nm~170nm","기타정보":" 이 물질군은 나노물질 OECD Sponsorship programm의 제조나노물질작업반(WPMN) 관리 대상 물질군에 해당함","제조방법":"베이어법, hydrothermal synthesis, 양극 산화, sol-gel 합성, Sputtering, Chemical Precipitation","응집엉김":"-"},{"물성":"흑연판이 말리는 각도에 따라 금속성과 반도체성을 가짐, 전기전도도와 열전도율이 높음","생성날짜":"20191217","측정장비":"TEM, SEM, BET","물질(그룹)분류":"탄소계","취급제품표면처리":"계면활성제, 황산, 질산 등","모양/형태":"구형/튜브","주요기능":"경량화, 전기적특성(금속성과 반도체성 모두 지님. 20~30nm 이상의 직경을 갖는 CNT에서는 벡터지수에 상관없이 금속성을 지님), 기계적특성(graphene sheet의 평면상","표면개질방법":"초음파처리, 액상반응공정","표면개질물질":"황산, 고분자 등","물질(군)분류":"SWCNTs","입자크기":"SWCNT : 1~60nm직경 : 0.7∼10.0nm","기타정보":" 이 물질군은 나노물질 OECD Sponsorship programm의 제조나노물질작업반(WPMN) 관리 대상 물질군에 해당함","제조방법":"화학기상증착(CVD), 아크방전법, 촉매기상합성법, 볼밀법, Sol-gel, HIPCO, CCVD, Acid treatment","응집엉김":"수십nm~ 수백um"},{"물성":"단결정상을 갖고 있어 균일도의 수준의 높음, 화염반응에 의해 제조된 제품은 친수성","생성날짜":"20191217","측정장비":"BET, SEM, CTAB, TEM, PSA, ELS ","물질(그룹)분류":"금속 및 무기 산화물","취급제품표면처리":"계면활성제, 스테아린산, KOH, NH4F ","모양/형태":"구형/입자, 다면체/입자","주요기능":"높은 열전도성, 높은 절연성, 낮은 수분 흡수율, 기체 또는 이온 불순물의 낮은 침투성","표면개질방법":"sol-gel법, 화학적 결합, 축합방법, Silation, silane coupling reaction","표면개질물질":"Al2O3, polydimethylsiloxane, HMDS, Dimethyldichlorosilane, silicon oil, octylsilane, acrylate, Methy","물질(군)분류":"SiO\u2082","입자크기":"수nm~수백nm 까지 다양하게 분포(직경 : 1~100nm 까지 다양하게 분포)","기타정보":" 이 물질군은 나노물질 OECD Sponsorship programm의 제조나노물질작업반(WPMN) 관리 대상 물질군에 해당하며, 대한민국은 나노물질 OECD Sponsorship","제조방법":"침전(Precipitation), 침강(gel), (기체)연소,sol-gel 합성, Sputtering, Chemical Precipitation, 에어로졸공정, 공침법/stobe","응집엉김":"250nm~10um 분포"},{"물성":"약한 agglomerates 형성으로 마이크론 크기 형성","생성날짜":"20191217","측정장비":"TEM, SEM, BET","물질(그룹)분류":"금속 및 무기 산화물","취급제품표면처리":"계면활성제","모양/형태":"구형/입자 , 선형/파이버","주요기능":"강도 향상, 경량화, 금속성, 반도체성 부여, 촉매","표면개질방법":"coating , 스퍼터링 , 화학흡착","표면개질물질":"Biotin ;  silica ;  Pt, Ta Pd ; 계면활성제","물질(군)분류":"Iron","입자크기":"대표입자크기 10∼100nm2nm~200nm","기타정보":" 이 물질군은 나노물질 OECD Sponsorship programm의 제조나노물질작업반(WPMN) 관리 대상 물질군에 해당함","제조방법":"스퍼터링, Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition, 공침법/sol-gel/stober, 화학기상증착(CVD), ball-milling, 초음파 ","응집엉김":"10 um"},{"물성":"6방정계 부르자이트 결정, 높은전도성, 자외선영역 발광특성","생성날짜":"20191217","측정장비":"TEM, SEM, DLS","물질(그룹)분류":"금속 및 무기 산화물","취급제품표면처리":"Thiol, Silane, 지방산 등","모양/형태":"다면체, 구형/입자, 선형/파이버","주요기능":"전기 전도성(전기적, 광학적 응용), 전계방출특성, 발광성, 압전특성","표면개질방법":"Lipid 첨가, 표면 capping","표면개질물질":"실란, Hydrogen dimethicone, Triethoxy caprylylsilane, Lipid alkyl acid","물질(군)분류":"ZnO","입자크기":"5nm~수백nm 까지 다양하게 분포(직경 : 50nm 이상)","기타정보":" 이 물질군은 나노물질 OECD Sponsorship programm의 제조나노물질작업반(WPMN) 관리 대상 물질군에 해당함","제조방법":"습식법, 저온소성법, 수열합성, 분자선 에피택시(MBE: Molecular Beam Epitaxy), 펄스레이저 증착법(PLD: Pulsed Laser Deposition), so","응집엉김":"250nm~10um"},{"물성":"anatase, rutile, brookite 의 3가지 결정구조를 가짐광촉매는 빛에너지에 의해 강력한 산화 및 환원 작용함","생성날짜":"20191217","측정장비":"TEM, SEM, PSA, BJH","물질(그룹)분류":"금속 및 무기 산화물","취급제품표면처리":"-","모양/형태":"구형/입자, 다면체/입자, 막대/파이버","주요기능":"높은 열전도성, 높은 절연성, 낮은 수분흡수율, 기체 또는 이온불순물의 낮은 침투성, 살균특성, 광촉매기능","표면개질방법":"Sucrose 첨가, 암모니아수 첨가, 암모니아첨가후 AgNO3첨가, Lipid 첨가","표면개질물질":"Aluminium hydroxide, Stearic Acid, Isobutyltrimethoxysilane, Carbon, Nitrogen, Ag, Lipid","물질(군)분류":"TiO\u2082","입자크기":"대표입자크기 : < 20nm,수nm~수백nm","기타정보":" 이 물질군은 나노물질 OECD Sponsorship programm의 제조나노물질작업반(WPMN) 관리 대상 물질군에 해당하며, 대한민국은 나노물질 OECD Sponsorship","제조방법":"anodization, 저온균일침전법, 수열합성법, Molten salt법, sol-gel 합성, Sputtering, Plasma Enhanced Chemical Vapor De","응집엉김":"수십nm~수십um 분포"},{"물성":"표면 플라즈몬 공명현상에 기인하여 뛰어난 흡광효과를 지님","생성날짜":"20191217","측정장비":"AFM, SEM, TEM, XRD","물질(그룹)분류":"금속 및 무기 산화물","취급제품표면처리":"-","모양/형태":"구형/입자 막대형/입자, 정육각형/입자","주요기능":"안정성, 항균성 등","표면개질방법":"합성/흡착, sol-gel","표면개질물질":"Anti-Human IgG, Citrate, Citosan, CTAB, CTAC, 실리카, 은","물질(군)분류":"Gold","입자크기":"대표입자크기 : 1∼20nm금： 1~150nm","기타정보":" 이 물질군은 나노물질 OECD Sponsorship programm의 제조나노물질작업반(WPMN) 관리 대상 물질군에 해당하며, 대한민국은 나노물질 OECD Sponsorship","제조방법":"sol-gel 법, two-phase method, Solution Synthesis, Evaporation, 전구체 환원, 액상반응","응집엉김":"-"},{"물성":"산화막과 강한 화학결합을 함, 약한 agglomerates 형성 ","생성날짜":"20191217","측정장비":"TEM, SEM, ICP, AAN, 비중계 등","물질(그룹)분류":"금속 및 무기 산화물","취급제품표면처리":"-","모양/형태":"구형/입자","주요기능":"산화막 식각속도 증가, 촉매, 변색 반전 방지","표면개질방법":"-","표면개질물질":"-","물질(군)분류":"CeO\u2082","입자크기":"대표입자크기 : 2∼11nm산화세슘 10~350nm","기타정보":" 이 물질군은 나노물질 OECD Sponsorship programm의 제조나노물질작업반(WPMN) 관리 대상 물질군에 해당함","제조방법":"Baking+Crushing 등","응집엉김":"500um"},{"물성":"은나노 농도에 따른 응집특성","생성날짜":"20191217","측정장비":"TEM, SEM, DLS, 입도분석기, OM, BET","물질(그룹)분류":"금속 및 무기 산화물","취급제품표면처리":"없음","모양/형태":"구형/입자","주요기능":"살균, 항균(Antibacretial, Antifungal), 항바이러스성, 표면 플라스몬 공명(Surface Plasmon Resonance), 소염성(antiinflammato","표면개질방법":"표면 capping, mixing, 합성","표면개질물질":"fatty acid, 극성용매, citrate, 계면활성제","물질(군)분류":"Silver","입자크기":"5.8nm~수백nm 까지 다양하게 분포(직경 : 1~100nm 까지 다양하게 분포)","기타정보":"이 물질군은 나노물질 OECD Sponsorship programm의 제조나노물질작업반(WPMN) 관리 대상 물질군에 해당하며, 대한민국은 나노물질 OECD Sponsorship ","제조방법":"화학적 합성법(기상법, 액상법-AgNO3이용), 전기화학법, 광환원법(UV이용), 생체합성법(박테리아, 곰팡이 이용)","응집엉김":"10nm~수um 분포"},{"물성":"약한 agglomerates 형성으로 마이크론 크기 형성","생성날짜":"20191217","측정장비":"SEM, TEM, AFM, SEM, 입도분석기, BET, XRD","물질(그룹)분류":"금속 및 무기 산화물","취급제품표면처리":"계면활성제, 황산, 질산 등","모양/형태":"구형/입자, 판, 선형","주요기능":"경도향상, 메모리소자 누설전류감소극복, 내마모, 내수성능 증강","표면개질방법":"-","표면개질물질":"pyrogenic metal oxide","물질(군)분류":"Al\u2082O\u2083","입자크기":"대표입자크기 : 20∼80nm13nm~170nm","기타정보":" 이 물질군은 나노물질 OECD Sponsorship programm의 제조나노물질작업반(WPMN) 관리 대상 물질군에 해당함","제조방법":"베이어법, hydrothermal synthesis, 양극 산화, sol-gel 합성, Sputtering, Chemical Precipitation","응집엉김":"-"},{"물성":"흑연판이 말리는 각도에 따라 금속성과 반도체성을 가짐, 전기전도도와 열전도율이 높음","생성날짜":"20191217","측정장비":"TEM, SEM, BET","물질(그룹)분류":"탄소계","취급제품표면처리":"계면활성제, 황산, 질산 등","모양/형태":"구형/튜브","주요기능":"경량화, 전기적특성(금속성과 반도체성 모두 지님. 20~30nm 이상의 직경을 갖는 CNT에서는 벡터지수에 상관없이 금속성을 지님), 기계적특성(graphene sheet의 평면상","표면개질방법":"초음파처리, 액상반응공정","표면개질물질":"황산, 고분자 등","물질(군)분류":"SWCNTs","입자크기":"SWCNT : 1~60nm직경 : 0.7∼10.0nm","기타정보":" 이 물질군은 나노물질 OECD Sponsorship programm의 제조나노물질작업반(WPMN) 관리 대상 물질군에 해당함","제조방법":"화학기상증착(CVD), 아크방전법, 촉매기상합성법, 볼밀법, Sol-gel, HIPCO, CCVD, Acid treatment","응집엉김":"수십nm~ 수백um"},{"물성":"특수한 분자성 결정으로서 1차 응집을 형성하고, 1차 응집체가 추가로 응집하여 2차원 또는 3차원 응집체(엉김체)를 형성","생성날짜":"20191217","측정장비":"TEM","물질(그룹)분류":"탄소계","취급제품표면처리":"-","모양/형태":"구형","주요기능":"반발 성능 향상, 경령화, 강도 향상, 전기특성의 부여 등, 활성산소 및 라디칼 제거 등","표면개질방법":"-","표면개질물질":"-","물질(군)분류":"Fullerenes(C60)","입자크기":"제품제조시 평균입경 : 수백 nm~수㎛1~10nm","기타정보":" 이 물질군은 나노물질 OECD Sponsorship programm의 제조나노물질작업반(WPMN) 관리 대상 물질군에 해당함","제조방법":"고온, 고압 합성, CVD, 아크법","응집엉김":"10nm~3um 분포"},{"물성":"-","생성날짜":"20191217","측정장비":"TEM, SEM, ASD, DLS, 입도분석기, 질소흡착, BET, ASTM","물질(그룹)분류":"탄소계","취급제품표면처리":"-","모양/형태":"구형/입자, 다각형/입자","주요기능":"-","표면개질방법":"-","표면개질물질":"oxidized Gas Black","물질(군)분류":"Carbon black","입자크기":"카본블랙：수nm~수백nm","기타정보":"0","제조방법":"Gas Black Process, Furnace Black Process, sol-gel 후 탄화법, 중질유 열분해, 연소법, 연속열분해법","응집엉김":"수십nm~수백um 분포"},{"물성":"흑연판이 말리는 각도에 따라 금속성과 반도체성을 가짐, 전기전도도와 열전도율이 높음","생성날짜":"20191217","측정장비":"TEM, SEM, BET","물질(그룹)분류":"탄소계","취급제품표면처리":"계면활성제, 황산, 질산 등","모양/형태":"구형/튜브","주요기능":"경량화, 전기적특성(금속성과 반도체성 모두 지님. 20~30nm 이상의 직경을 갖는 CNT에서는 벡터지수에 상관없이 금속성을 지님), 기계적특성(graphene sheet의 평면상","표면개질방법":"초음파처리, 액상반응공정","표면개질물질":"황산, 고분자 등","물질(군)분류":"MWCNTs","입자크기":"MWCNT : 7~60nm직경 : 5∼100nm","기타정보":" 이 물질군은 나노물질 OECD Sponsorship programm의 제조나노물질작업반(WPMN) 관리 대상 물질군에 해당하며, 대한민국은 나노물질 OECD Sponsorship","제조방법":"화학기상증착(CVD), 아크방전법, 촉매기상합성법, 볼밀법, Sol-gel, HIPCO, CCVD, Acid treatment, 레이저증착법","응집엉김":"수십nm~ 수백um"},{"물성":"0","생성날짜":"20191217","측정장비":"0","물질(그룹)분류":"기타","취급제품표면처리":"0","모양/형태":"0","주요기능":"0","표면개질방법":"0","표면개질물질":"0","물질(군)분류":"Etc.","입자크기":"0","기타정보":"0","제조방법":"0","응집엉김":"0"},{"물성":"층상구조","생성날짜":"20191217","측정장비":"XRD, SEM, TEM, AFM","물질(그룹)분류":"고분자","취급제품표면처리":"-","모양/형태":"다면체, 막대형/판, 육각형/판상, 원형/입자","주요기능":"경도, 강도증가, 내열(한)성, 방화성부여, 분산성, 기체차단성 부여 등","표면개질방법":"코어쉘코팅","표면개질물질":"NA+, 에폭시 실란","물질(군)분류":"Nanoclays","입자크기":"대표입자크기 : 10∼80nm나노점토 : 1~200nm(1~13um)","기타정보":" 이 물질군은 나노물질 OECD Sponsorship programm의 제조나노물질작업반(WPMN) 관리 대상 물질군에 해당함","제조방법":"-","응집엉김":"-"},{"물성":"중심주위에 나뭇가지형이 덴드론이 둘러싼 구형 고분자, 일정분자량을 가지고 있음","생성날짜":"20191217","측정장비":"-","물질(그룹)분류":"고분자","취급제품표면처리":"최외각에 다양한 기능기 변경 가능","모양/형태":"-","주요기능":"물질 전달; 분산능력","표면개질방법":"-","표면개질물질":"-","물질(군)분류":"Dendrimers","입자크기":"대표입자크기 : 1∼100nm (PAMAM 덴드리머의 경우 1세대당 1nm 씩 증가한다.)나노점토： 1~200nm(2~13um)","기타정보":" 이 물질군은 나노물질 OECD Sponsorship programm의 제조나노물질작업반(WPMN) 관리 대상 물질군에 해당하며, 대한민국은 나노물질 OECD Sponsorship","제조방법":"-","응집엉김":"-"},{"물성":"0","생성날짜":"20191217","측정장비":"0","물질(그룹)분류":"고분자","취급제품표면처리":"0","모양/형태":"0","주요기능":"0","표면개질방법":"0","표면개질물질":"0","물질(군)분류":"Polystyrene","입자크기":"0","기타정보":"0","제조방법":"0","응집엉김":"0"},{"물성":"단결정상을 갖고 있어 균일도의 수준의 높음, 화염반응에 의해 제조된 제품은 친수성","생성날짜":"20191217","측정장비":"BET, SEM, CTAB, TEM, PSA, ELS ","물질(그룹)분류":"금속 및 무기 산화물","취급제품표면처리":"계면활성제, 스테아린산, KOH, NH4F ","모양/형태":"구형/입자, 다면체/입자","주요기능":"높은 열전도성, 높은 절연성, 낮은 수분 흡수율, 기체 또는 이온 불순물의 낮은 침투성","표면개질방법":"sol-gel법, 화학적 결합, 축합방법, Silation, silane coupling reaction","표면개질물질":"Al2O3, polydimethylsiloxane, HMDS, Dimethyldichlorosilane, silicon oil, octylsilane, acrylate, Methy","물질(군)분류":"SiO\u2082","입자크기":"수nm~수백nm 까지 다양하게 분포(직경 : 1~100nm 까지 다양하게 분포)","기타정보":" 이 물질군은 나노물질 OECD Sponsorship programm의 제조나노물질작업반(WPMN) 관리 대상 물질군에 해당하며, 대한민국은 나노물질 OECD Sponsorship","제조방법":"침전(Precipitation), 침강(gel), (기체)연소,sol-gel 합성, Sputtering, Chemical Precipitation, 에어로졸공정, 공침법/stobe","응집엉김":"250nm~10um 분포"},{"물성":"약한 agglomerates 형성으로 마이크론 크기 형성","생성날짜":"20191217","측정장비":"TEM, SEM, BET","물질(그룹)분류":"금속 및 무기 산화물","취급제품표면처리":"계면활성제","모양/형태":"구형/입자 , 선형/파이버","주요기능":"강도 향상, 경량화, 금속성, 반도체성 부여, 촉매","표면개질방법":"coating , 스퍼터링 , 화학흡착","표면개질물질":"Biotin ;  silica ;  Pt, Ta Pd ; 계면활성제","물질(군)분류":"Iron","입자크기":"대표입자크기 10∼100nm2nm~200nm","기타정보":" 이 물질군은 나노물질 OECD Sponsorship programm의 제조나노물질작업반(WPMN) 관리 대상 물질군에 해당함","제조방법":"스퍼터링, Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition, 공침법/sol-gel/stober, 화학기상증착(CVD), ball-milling, 초음파 ","응집엉김":"10 um"},{"물성":"6방정계 부르자이트 결정, 높은전도성, 자외선영역 발광특성","생성날짜":"20191217","측정장비":"TEM, SEM, DLS","물질(그룹)분류":"금속 및 무기 산화물","취급제품표면처리":"Thiol, Silane, 지방산 등","모양/형태":"다면체, 구형/입자, 선형/파이버","주요기능":"전기 전도성(전기적, 광학적 응용), 전계방출특성, 발광성, 압전특성","표면개질방법":"Lipid 첨가, 표면 capping","표면개질물질":"실란, Hydrogen dimethicone, Triethoxy caprylylsilane, Lipid alkyl acid","물질(군)분류":"ZnO","입자크기":"5nm~수백nm 까지 다양하게 분포(직경 : 50nm 이상)","기타정보":" 이 물질군은 나노물질 OECD Sponsorship programm의 제조나노물질작업반(WPMN) 관리 대상 물질군에 해당함","제조방법":"습식법, 저온소성법, 수열합성, 분자선 에피택시(MBE: Molecular Beam Epitaxy), 펄스레이저 증착법(PLD: Pulsed Laser Deposition), so","응집엉김":"250nm~10um"},{"물성":"anatase, rutile, brookite 의 3가지 결정구조를 가짐광촉매는 빛에너지에 의해 강력한 산화 및 환원 작용함","생성날짜":"20191217","측정장비":"TEM, SEM, PSA, BJH","물질(그룹)분류":"금속 및 무기 산화물","취급제품표면처리":"-","모양/형태":"구형/입자, 다면체/입자, 막대/파이버","주요기능":"높은 열전도성, 높은 절연성, 낮은 수분흡수율, 기체 또는 이온불순물의 낮은 침투성, 살균특성, 광촉매기능","표면개질방법":"Sucrose 첨가, 암모니아수 첨가, 암모니아첨가후 AgNO3첨가, Lipid 첨가","표면개질물질":"Aluminium hydroxide, Stearic Acid, Isobutyltrimethoxysilane, Carbon, Nitrogen, Ag, Lipid","물질(군)분류":"TiO\u2082","입자크기":"대표입자크기 : < 20nm,수nm~수백nm","기타정보":" 이 물질군은 나노물질 OECD Sponsorship programm의 제조나노물질작업반(WPMN) 관리 대상 물질군에 해당하며, 대한민국은 나노물질 OECD Sponsorship","제조방법":"anodization, 저온균일침전법, 수열합성법, Molten salt법, sol-gel 합성, Sputtering, Plasma Enhanced Chemical Vapor De","응집엉김":"수십nm~수십um 분포"},{"물성":"표면 플라즈몬 공명현상에 기인하여 뛰어난 흡광효과를 지님","생성날짜":"20191217","측정장비":"AFM, SEM, TEM, XRD","물질(그룹)분류":"금속 및 무기 산화물","취급제품표면처리":"-","모양/형태":"구형/입자 막대형/입자, 정육각형/입자","주요기능":"안정성, 항균성 등","표면개질방법":"합성/흡착, sol-gel","표면개질물질":"Anti-Human IgG, Citrate, Citosan, CTAB, CTAC, 실리카, 은","물질(군)분류":"Gold","입자크기":"대표입자크기 : 1∼20nm금： 1~150nm","기타정보":" 이 물질군은 나노물질 OECD Sponsorship programm의 제조나노물질작업반(WPMN) 관리 대상 물질군에 해당하며, 대한민국은 나노물질 OECD Sponsorship","제조방법":"sol-gel 법, two-phase method, Solution Synthesis, Evaporation, 전구체 환원, 액상반응","응집엉김":"-"},{"물성":"산화막과 강한 화학결합을 함, 약한 agglomerates 형성 ","생성날짜":"20191217","측정장비":"TEM, SEM, ICP, AAN, 비중계 등","물질(그룹)분류":"금속 및 무기 산화물","취급제품표면처리":"-","모양/형태":"구형/입자","주요기능":"산화막 식각속도 증가, 촉매, 변색 반전 방지","표면개질방법":"-","표면개질물질":"-","물질(군)분류":"CeO\u2082","입자크기":"대표입자크기 : 2∼11nm산화세슘 10~350nm","기타정보":" 이 물질군은 나노물질 OECD Sponsorship programm의 제조나노물질작업반(WPMN) 관리 대상 물질군에 해당함","제조방법":"Baking+Crushing 등","응집엉김":"500um"},{"물성":"은나노 농도에 따른 응집특성","생성날짜":"20191217","측정장비":"TEM, SEM, DLS, 입도분석기, OM, BET","물질(그룹)분류":"금속 및 무기 산화물","취급제품표면처리":"없음","모양/형태":"구형/입자","주요기능":"살균, 항균(Antibacretial, Antifungal), 항바이러스성, 표면 플라스몬 공명(Surface Plasmon Resonance), 소염성(antiinflammato","표면개질방법":"표면 capping, mixing, 합성","표면개질물질":"fatty acid, 극성용매, citrate, 계면활성제","물질(군)분류":"Silver","입자크기":"5.8nm~수백nm 까지 다양하게 분포(직경 : 1~100nm 까지 다양하게 분포)","기타정보":"이 물질군은 나노물질 OECD Sponsorship programm의 제조나노물질작업반(WPMN) 관리 대상 물질군에 해당하며, 대한민국은 나노물질 OECD Sponsorship ","제조방법":"화학적 합성법(기상법, 액상법-AgNO3이용), 전기화학법, 광환원법(UV이용), 생체합성법(박테리아, 곰팡이 이용)","응집엉김":"10nm~수um 분포"},{"물성":"약한 agglomerates 형성으로 마이크론 크기 형성","생성날짜":"20191217","측정장비":"SEM, TEM, AFM, SEM, 입도분석기, BET, XRD","물질(그룹)분류":"금속 및 무기 산화물","취급제품표면처리":"계면활성제, 황산, 질산 등","모양/형태":"구형/입자, 판, 선형","주요기능":"경도향상, 메모리소자 누설전류감소극복, 내마모, 내수성능 증강","표면개질방법":"-","표면개질물질":"pyrogenic metal oxide","물질(군)분류":"Al\u2082O\u2083","입자크기":"대표입자크기 : 20∼80nm13nm~170nm","기타정보":" 이 물질군은 나노물질 OECD Sponsorship programm의 제조나노물질작업반(WPMN) 관리 대상 물질군에 해당함","제조방법":"베이어법, hydrothermal synthesis, 양극 산화, sol-gel 합성, Sputtering, Chemical Precipitation","응집엉김":"-"},{"물성":"흑연판이 말리는 각도에 따라 금속성과 반도체성을 가짐, 전기전도도와 열전도율이 높음","생성날짜":"20191217","측정장비":"TEM, SEM, BET","물질(그룹)분류":"탄소계","취급제품표면처리":"계면활성제, 황산, 질산 등","모양/형태":"구형/튜브","주요기능":"경량화, 전기적특성(금속성과 반도체성 모두 지님. 20~30nm 이상의 직경을 갖는 CNT에서는 벡터지수에 상관없이 금속성을 지님), 기계적특성(graphene sheet의 평면상","표면개질방법":"초음파처리, 액상반응공정","표면개질물질":"황산, 고분자 등","물질(군)분류":"SWCNTs","입자크기":"SWCNT : 1~60nm직경 : 0.7∼10.0nm","기타정보":" 이 물질군은 나노물질 OECD Sponsorship programm의 제조나노물질작업반(WPMN) 관리 대상 물질군에 해당함","제조방법":"화학기상증착(CVD), 아크방전법, 촉매기상합성법, 볼밀법, Sol-gel, HIPCO, CCVD, Acid treatment","응집엉김":"수십nm~ 수백um"},{"물성":"특수한 분자성 결정으로서 1차 응집을 형성하고, 1차 응집체가 추가로 응집하여 2차원 또는 3차원 응집체(엉김체)를 형성","생성날짜":"20191217","측정장비":"TEM","물질(그룹)분류":"탄소계","취급제품표면처리":"-","모양/형태":"구형","주요기능":"반발 성능 향상, 경령화, 강도 향상, 전기특성의 부여 등, 활성산소 및 라디칼 제거 등","표면개질방법":"-","표면개질물질":"-","물질(군)분류":"Fullerenes(C60)","입자크기":"제품제조시 평균입경 : 수백 nm~수㎛1~10nm","기타정보":" 이 물질군은 나노물질 OECD Sponsorship programm의 제조나노물질작업반(WPMN) 관리 대상 물질군에 해당함","제조방법":"고온, 고압 합성, CVD, 아크법","응집엉김":"10nm~3um 분포"},{"물성":"-","생성날짜":"20191217","측정장비":"TEM, SEM, ASD, DLS, 입도분석기, 질소흡착, BET, ASTM","물질(그룹)분류":"탄소계","취급제품표면처리":"-","모양/형태":"구형/입자, 다각형/입자","주요기능":"-","표면개질방법":"-","표면개질물질":"oxidized Gas Black","물질(군)분류":"Carbon black","입자크기":"카본블랙：수nm~수백nm","기타정보":"0","제조방법":"Gas Black Process, Furnace Black Process, sol-gel 후 탄화법, 중질유 열분해, 연소법, 연속열분해법","응집엉김":"수십nm~수백um 분포"},{"물성":"흑연판이 말리는 각도에 따라 금속성과 반도체성을 가짐, 전기전도도와 열전도율이 높음","생성날짜":"20191217","측정장비":"TEM, SEM, BET","물질(그룹)분류":"탄소계","취급제품표면처리":"계면활성제, 황산, 질산 등","모양/형태":"구형/튜브","주요기능":"경량화, 전기적특성(금속성과 반도체성 모두 지님. 20~30nm 이상의 직경을 갖는 CNT에서는 벡터지수에 상관없이 금속성을 지님), 기계적특성(graphene sheet의 평면상","표면개질방법":"초음파처리, 액상반응공정","표면개질물질":"황산, 고분자 등","물질(군)분류":"MWCNTs","입자크기":"MWCNT : 7~60nm직경 : 5∼100nm","기타정보":" 이 물질군은 나노물질 OECD Sponsorship programm의 제조나노물질작업반(WPMN) 관리 대상 물질군에 해당하며, 대한민국은 나노물질 OECD Sponsorship","제조방법":"화학기상증착(CVD), 아크방전법, 촉매기상합성법, 볼밀법, Sol-gel, HIPCO, CCVD, Acid treatment, 레이저증착법","응집엉김":"수십nm~ 수백um"},{"물성":"0","생성날짜":"20191217","측정장비":"0","물질(그룹)분류":"기타","취급제품표면처리":"0","모양/형태":"0","주요기능":"0","표면개질방법":"0","표면개질물질":"0","물질(군)분류":"Etc.","입자크기":"0","기타정보":"0","제조방법":"0","응집엉김":"0"}],"status":"OK"}