{"status_schema":"OK","dataType":{"모양/형태":"object","주요기능":"object","표면개질방법":"object","물성":"object","물질(군)분류":"object","입자크기":"object","측정장비":"object","기타정보":"object","물질(그룹)분류":"object","취급제품표면처리":"object","제조방법":"object","응집엉김":"object"},"schema_detail_unit":[{},{},{},{},{},{},{},{},{},{},{},{},{},{}],"preview_keys":["응집엉김","기타정보","주요기능","측정장비","제조방법","물질(그룹)분류","물질(군)분류","물성","입자크기","모양/형태","취급제품표면처리","표면개질방법","표면개질물질","생성날짜"],"schema_master_id":"3e1b3db9-2218-4467-94af-9907b8eaf3ca","message":"데이터 준비중입니다.","schema_detail_data":[{"데이터사이즈":100,"번호":1,"컬럼명(한글)":"응집엉김","NotNull여부":false,"PK 여부":false,"컬럼설명":"응집엉김","컬럼명(영문)":"agg","데이터유형":"TEXT"},{"데이터사이즈":4000,"번호":2,"컬럼명(한글)":"기타정보","NotNull여부":false,"PK 여부":false,"컬럼설명":"기타정보","컬럼명(영문)":"etcinfo","데이터유형":"TEXT"},{"데이터사이즈":4000,"번호":3,"컬럼명(한글)":"주요기능","NotNull여부":false,"PK 여부":false,"컬럼설명":"주요기능","컬럼명(영문)":"mainfnct","데이터유형":"TEXT"},{"데이터사이즈":100,"번호":4,"컬럼명(한글)":"측정장비","NotNull여부":false,"PK 여부":false,"컬럼설명":"측정장비","컬럼명(영문)":"mesureeqpmn","데이터유형":"TEXT"},{"데이터사이즈":100,"번호":5,"컬럼명(한글)":"제조방법","NotNull여부":false,"PK 여부":false,"컬럼설명":"제조방법","컬럼명(영문)":"mnfcturmth","데이터유형":"TEXT"},{"데이터사이즈":100,"번호":6,"컬럼명(한글)":"물질(그룹)분류","NotNull여부":false,"PK 여부":false,"컬럼설명":"물질(그룹)분류","컬럼명(영문)":"mttrcl1","데이터유형":"TEXT"},{"데이터사이즈":100,"번호":7,"컬럼명(한글)":"물질(군)분류","NotNull여부":false,"PK 여부":false,"컬럼설명":"물질(군)분류","컬럼명(영문)":"mttrcl2","데이터유형":"TEXT"},{"데이터사이즈":100,"번호":8,"컬럼명(한글)":"물성","NotNull여부":false,"PK 여부":false,"컬럼설명":"물성","컬럼명(영문)":"mttrdispos","데이터유형":"TEXT"},{"데이터사이즈":100,"번호":9,"컬럼명(한글)":"입자크기","NotNull여부":false,"PK 여부":false,"컬럼설명":"입자크기","컬럼명(영문)":"partclmg","데이터유형":"TEXT"},{"데이터사이즈":100,"번호":10,"컬럼명(한글)":"모양/형태","NotNull여부":false,"PK 여부":false,"컬럼설명":"모양/형태","컬럼명(영문)":"shape","데이터유형":"TEXT"},{"데이터사이즈":100,"번호":11,"컬럼명(한글)":"취급제품표면처리","NotNull여부":false,"PK 여부":false,"컬럼설명":"취급제품표면처리","컬럼명(영문)":"surfcprocess","데이터유형":"TEXT"},{"데이터사이즈":100,"번호":12,"컬럼명(한글)":"표면개질방법","NotNull여부":false,"PK 여부":false,"컬럼설명":"표면개질방법","컬럼명(영문)":"surfcrefmngmth","데이터유형":"TEXT"},{"데이터사이즈":100,"번호":13,"컬럼명(한글)":"표면개질물질","NotNull여부":false,"PK 여부":false,"컬럼설명":"표면개질물질","컬럼명(영문)":"surfcrefmngmttr","데이터유형":"TEXT"},{"데이터사이즈":20,"번호":14,"컬럼명(한글)":"생성날짜","NotNull여부":false,"PK 여부":false,"컬럼설명":"생성날짜","컬럼명(영문)":"createdate","데이터유형":"TEXT"}],"schema_keys":["영문 컬럼명","한글 컬럼명","개수","Null 개수","최소값","최대값","합계","평균","중위값","분산","표준편차"],"schema_data":[],"schema_detail_status":"OK","schema_detail_key":["번호","컬럼명(영문)","컬럼명(한글)","데이터유형","데이터사이즈","NotNull여부","PK 여부","컬럼설명","단위"],"distribution_id":"3b740d10-c5c2-11ea-b982-1f95fdff3451","preview_data":[{"물성":"층상구조","측정장비":"XRD. SEM. TEM. AFM","물질(그룹)분류":"고분자","취급제품표면처리":"-","모양/형태":"다면체. 막대형/판. 육각형/판상. 원형/입자","주요기능":"경도. 강도증가. 내열(한)성. 방화성부여. 분산성. 기체차단성 부여 등","표면개질방법":"코어쉘코팅","표면개질물질":"","물질(군)분류":"Nanoclays","입자크기":"대표입자크기 : 10∼80nm 나노점토 : 1~200nm(1~13um)","기타정보":"이 물질군은 나노물질 OECD Sponsorship programm의 제조나노물질작업반(WPMN) 관리 대상 물질군에 해당함","제조방법":"-","응집엉김":"-"},{"물성":"중심주위에 나뭇가지형이 덴드론이 둘러싼 구형 고분자. 일정분자량을 가지고 있음","측정장비":"-","물질(그룹)분류":"고분자","취급제품표면처리":"최외각에 다양한 기능기 변경 가능","모양/형태":"-","주요기능":"물질 전달; 분산능력","표면개질방법":"-","표면개질물질":"","물질(군)분류":"Dendrimers","입자크기":"대표입자크기 : 1∼100nm (PAMAM 덴드리머의 경우 1세대당 1nm 씩 증가한다.) 나노점토： 1~200nm(2~13um)","기타정보":"이 물질군은 나노물질 OECD Sponsorship programm의 제조나노물질작업반(WPMN) 관리 대상 물질군에 해당하며. 대한민국은 나노물질 OECD Sponsorship ","제조방법":"-","응집엉김":"-"},{"주요기능":"","물질(군)분류":"","측정장비":"","기타정보":"","물질(그룹)분류":"고분자","제조방법":"","응집엉김":""},{"물성":"단결정상을 갖고 있어 균일도의 수준의 높음. 화염반응에 의해 제조된 제품은 친수성","측정장비":"BET. SEM. CTAB. TEM. PSA. ELS","물질(그룹)분류":"금속 및 무기 산화물","취급제품표면처리":"계면활성제. 스테아린산. KOH. NH4F","모양/형태":"구형/입자. 다면체/입자","주요기능":"높은 열전도성. 높은 절연성. 낮은 수분 흡수율. 기체 또는 이온 불순물의 낮은 침투성","표면개질방법":"sol-gel법. 화학적 결합. 축합방법. Silation. silane coupling reaction","표면개질물질":"","물질(군)분류":"SiO\u2082","입자크기":"수nm~수백nm 까지 다양하게 분포 (직경 : 1~100nm 까지 다양하게 분포)","기타정보":"이 물질군은 나노물질 OECD Sponsorship programm의 제조나노물질작업반(WPMN) 관리 대상 물질군에 해당하며. 대한민국은 나노물질 OECD Sponsorship ","제조방법":"침전(Precipitation). 침강(gel). (기체)연소.sol-gel 합성. Sputtering. Chemical Precipitation. 에어로졸공정. 공침법/stobe","응집엉김":"250nm~10um 분포"},{"물성":"약한 agglomerates 형성으로 마이크론 크기 형성","측정장비":"TEM. SEM. BET","물질(그룹)분류":"금속 및 무기 산화물","취급제품표면처리":"계면활성제","모양/형태":"구형/입자 . 선형/파이버","주요기능":"강도 향상. 경량화. 금속성. 반도체성 부여. 촉매","표면개질방법":"coating . 스퍼터링 . 화학흡착","표면개질물질":"","물질(군)분류":"Iron","입자크기":"대표입자크기 10∼100nm 2nm~200nm","기타정보":"이 물질군은 나노물질 OECD Sponsorship programm의 제조나노물질작업반(WPMN) 관리 대상 물질군에 해당함","제조방법":"스퍼터링. Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition. 공침법/sol-gel/stober. 화학기상증착(CVD). ball-milling. 초음파 ","응집엉김":"10 um"},{"물성":"6방정계 부르자이트 결정. 높은전도성. 자외선영역 발광특성","측정장비":"TEM. SEM. DLS","물질(그룹)분류":"금속 및 무기 산화물","취급제품표면처리":"Thiol. Silane. 지방산 등","모양/형태":"다면체. 구형/입자. 선형/파이버","주요기능":"전기 전도성(전기적. 광학적 응용). 전계방출특성. 발광성. 압전특성","표면개질방법":"Lipid 첨가. 표면 capping","표면개질물질":"","물질(군)분류":"ZnO","입자크기":"5nm~수백nm 까지 다양하게 분포 (직경 : 50nm 이상)","기타정보":"이 물질군은 나노물질 OECD Sponsorship programm의 제조나노물질작업반(WPMN) 관리 대상 물질군에 해당함","제조방법":"습식법. 저온소성법. 수열합성. 분자선 에피택시(MBE: Molecular Beam Epitaxy). 펄스레이저 증착법(PLD: Pulsed Laser Deposition). so","응집엉김":"250nm~10um"},{"물성":"anatase. rutile. brookite 의 3가지 결정구조를 가짐 광촉매는 빛에너지에 의해 강력한 산화 및 환원 작용함","측정장비":"TEM. SEM. PSA. BJH","물질(그룹)분류":"금속 및 무기 산화물","취급제품표면처리":"-","모양/형태":"구형/입자. 다면체/입자. 막대/파이버","주요기능":"높은 열전도성. 높은 절연성. 낮은 수분흡수율. 기체 또는 이온불순물의 낮은 침투성. 살균특성. 광촉매기능","표면개질방법":"Sucrose 첨가. 암모니아수 첨가. 암모니아첨가후 AgNO3첨가. Lipid 첨가","표면개질물질":"","물질(군)분류":"TiO\u2082","입자크기":"대표입자크기 : < 20nm. 수nm~수백nm","기타정보":"이 물질군은 나노물질 OECD Sponsorship programm의 제조나노물질작업반(WPMN) 관리 대상 물질군에 해당하며. 대한민국은 나노물질 OECD Sponsorship ","제조방법":"anodization. 저온균일침전법. 수열합성법. Molten salt법. sol-gel 합성. Sputtering. Plasma Enhanced Chemical Vapor De","응집엉김":"수십nm~수십um 분포"},{"물성":"표면 플라즈몬 공명현상에 기인하여 뛰어난 흡광효과를 지님","측정장비":"AFM. SEM. TEM. XRD","물질(그룹)분류":"금속 및 무기 산화물","취급제품표면처리":"-","모양/형태":"구형/입자 막대형/입자. 정육각형/입자","주요기능":"안정성. 항균성 등","표면개질방법":"합성/흡착. sol-gel","표면개질물질":"","물질(군)분류":"Gold","입자크기":"대표입자크기 : 1∼20nm 금： 1~150nm","기타정보":"이 물질군은 나노물질 OECD Sponsorship programm의 제조나노물질작업반(WPMN) 관리 대상 물질군에 해당하며. 대한민국은 나노물질 OECD Sponsorship ","제조방법":"sol-gel 법. two-phase method. Solution Synthesis. Evaporation. 전구체 환원. 액상반응","응집엉김":"-"},{"물성":"산화막과 강한 화학결합을 함. 약한 agglomerates 형성","측정장비":"TEM. SEM. ICP. AAN. 비중계 등","물질(그룹)분류":"금속 및 무기 산화물","취급제품표면처리":"-","모양/형태":"구형/입자","주요기능":"산화막 식각속도 증가. 촉매. 변색 반전 방지","표면개질방법":"-","표면개질물질":"","물질(군)분류":"CeO\u2082","입자크기":"대표입자크기 : 2∼11nm 산화세슘 10~350nm","기타정보":"이 물질군은 나노물질 OECD Sponsorship programm의 제조나노물질작업반(WPMN) 관리 대상 물질군에 해당함","제조방법":"Baking+Crushing 등","응집엉김":"500um"},{"물성":"은나노 농도에 따른 응집특성","측정장비":"TEM. SEM. DLS. 입도분석기. OM. BET","물질(그룹)분류":"금속 및 무기 산화물","취급제품표면처리":"없음","모양/형태":"구형/입자","주요기능":"살균. 항균(Antibacretial. Antifungal). 항바이러스성. 표면 플라스몬 공명(Surface Plasmon Resonance). 소염성(antiinflammato","표면개질방법":"표면 capping. mixing. 합성","표면개질물질":"","물질(군)분류":"Silver","입자크기":"5.8nm~수백nm 까지 다양하게 분포 (직경 : 1~100nm 까지 다양하게 분포)","기타정보":"이 물질군은 나노물질 OECD Sponsorship programm의 제조나노물질작업반(WPMN) 관리 대상 물질군에 해당하며. 대한민국은 나노물질 OECD Sponsorship ","제조방법":"화학적 합성법(기상법. 액상법-AgNO3이용). 전기화학법. 광환원법(UV이용). 생체합성법(박테리아. 곰팡이 이용)","응집엉김":"10nm~수um 분포"},{"물성":"약한 agglomerates 형성으로 마이크론 크기 형성","측정장비":"SEM. TEM. AFM. SEM. 입도분석기. BET. XRD","물질(그룹)분류":"금속 및 무기 산화물","취급제품표면처리":"계면활성제. 황산. 질산 등","모양/형태":"구형/입자. 판. 선형","주요기능":"경도향상. 메모리소자 누설전류감소극복. 내마모. 내수성능 증강","표면개질방법":"-","표면개질물질":"","물질(군)분류":"Al\u2082O\u2083","입자크기":"대표입자크기 : 20∼80nm 13nm~170nm","기타정보":"이 물질군은 나노물질 OECD Sponsorship programm의 제조나노물질작업반(WPMN) 관리 대상 물질군에 해당함","제조방법":"베이어법. hydrothermal synthesis. 양극 산화. sol-gel 합성. Sputtering. Chemical Precipitation","응집엉김":"-"},{"물성":"흑연판이 말리는 각도에 따라 금속성과 반도체성을 가짐. 전기전도도와 열전도율이 높음","측정장비":"TEM. SEM. BET","물질(그룹)분류":"탄소계","취급제품표면처리":"계면활성제. 황산. 질산 등","모양/형태":"구형/튜브","주요기능":"경량화. 전기적특성(금속성과 반도체성 모두 지님. 20~30nm 이상의 직경을 갖는 CNT에서는 벡터지수에 상관없이 금속성을 지님). 기계적특성(graphene sheet의 평면상","표면개질방법":"초음파처리. 액상반응공정","표면개질물질":"","물질(군)분류":"SWCNTs","입자크기":"SWCNT : 1~60nm 직경 : 0.7∼10.0nm","기타정보":"이 물질군은 나노물질 OECD Sponsorship programm의 제조나노물질작업반(WPMN) 관리 대상 물질군에 해당함","제조방법":"화학기상증착(CVD). 아크방전법. 촉매기상합성법. 볼밀법. Sol-gel. HIPCO. CCVD. Acid treatment","응집엉김":"수십nm~ 수백um"},{"물성":"특수한 분자성 결정으로서 1차 응집을 형성하고. 1차 응집체가 추가로 응집하여 2차원 또는 3차원 응집체(엉김체)를 형성","측정장비":"TEM","물질(그룹)분류":"탄소계","취급제품표면처리":"-","모양/형태":"구형","주요기능":"반발 성능 향상. 경령화. 강도 향상. 전기특성의 부여 등. 활성산소 및 라디칼 제거 등","표면개질방법":"-","표면개질물질":"","물질(군)분류":"Fullerenes(C60)","입자크기":"제품제조시 평균입경 : 수백 nm~수㎛ 1~10nm","기타정보":"이 물질군은 나노물질 OECD Sponsorship programm의 제조나노물질작업반(WPMN) 관리 대상 물질군에 해당함","제조방법":"고온. 고압 합성. CVD. 아크법","응집엉김":"10nm~3um 분포"},{"물성":"-","측정장비":"TEM. SEM. ASD. DLS. 입도분석기. 질소흡착. BET. ASTM","물질(그룹)분류":"탄소계","취급제품표면처리":"-","모양/형태":"구형/입자. 다각형/입자","주요기능":"-","표면개질방법":"-","표면개질물질":"","물질(군)분류":"Carbon black","입자크기":"카본블랙：수nm~수백nm","기타정보":"","제조방법":"Gas Black Process. Furnace Black Process. sol-gel 후 탄화법. 중질유 열분해. 연소법. 연속열분해법","응집엉김":"수십nm~수백um 분포"},{"물성":"흑연판이 말리는 각도에 따라 금속성과 반도체성을 가짐. 전기전도도와 열전도율이 높음","측정장비":"TEM. SEM. BET","물질(그룹)분류":"탄소계","취급제품표면처리":"계면활성제. 황산. 질산 등","모양/형태":"구형/튜브","주요기능":"경량화. 전기적특성(금속성과 반도체성 모두 지님. 20~30nm 이상의 직경을 갖는 CNT에서는 벡터지수에 상관없이 금속성을 지님). 기계적특성(graphene sheet의 평면상","표면개질방법":"초음파처리. 액상반응공정","표면개질물질":"","물질(군)분류":"MWCNTs","입자크기":"MWCNT : 7~60nm 직경 : 5∼100nm","기타정보":"이 물질군은 나노물질 OECD Sponsorship programm의 제조나노물질작업반(WPMN) 관리 대상 물질군에 해당하며. 대한민국은 나노물질 OECD Sponsorship ","제조방법":"화학기상증착(CVD). 아크방전법. 촉매기상합성법. 볼밀법. Sol-gel. HIPCO. CCVD. Acid treatment. 레이저증착법","응집엉김":"수십nm~ 수백um"},{"주요기능":"","물질(군)분류":"","측정장비":"","기타정보":"","물질(그룹)분류":"기타","제조방법":"","응집엉김":""}],"status":"OK"}